集成电路企业重点产权！2024年成都市集成电路布图设计申请流程、材料要求须知

小编今天给大家整理了2024年成都市集成电路布图设计申请流程、材料要求，具体详情如下，感兴趣的赶紧来看看吧，有相关需求的企业可以联系小编咨询！

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知识产权领域中除了大家熟知的专利、版权、商标外，还有一个项目也起着非常重要的作用，那就是集成电路布图设计。

一、什么是集成电路布图？

是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

通俗地说，它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。

集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但它并非是工业品外观设计，因此不能适用专利法保护，但国家知识产权局也有提出了专门的保护方法。

适用企业：电子元件、芯片、半导体行业

二、申请集成电路布图设计所需材料

（一）必须提交的文件：

1、集成电路布图设计登记申请表1份；

2、图样1份；

3、图样的目录1份；

4、简要说明。

（二）申请文件的形式要求

图样：包括该布图设计的总图和分层图，以适合A4纸的大小打印在A4纸上；每页纸打印一幅图；当图纸有多时，应顺序编号。

图样的目录：应写明每页图纸的图层名称。

样品（没有可不放）：所提交的集成电路样品应当置于专用器具中，器具表面应当贴上标签，写明申请人的姓名和集成电路布图设计名称。

简要说明：说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

三、集成电路布图设计登记流程时间

申请周期在4个月左右，相较于发明专利等知识产权，申请时间较短。

四、其他申请事项

集成电路布图设计专有权的保护期为10年，从其登记申请之日或者首次投入商业利用之日起算，并以较前的日期为准。

《集成电路布图设计保护条例》也规定了布图设计保护的最长期限，即布图设计从创作完成之日起十五年后，不论其是否投入商业利用都不能享有法律的保护。

集成电路布图设计在中国的知识产权领域属于专利范畴，价值较高，相比发明专利、实用新型，具有申请周期短的明显优势，可以帮助计划申报高新技术企业的集成电路企业在短期内拿到较高的知识产权评分（Ⅰ类知识产权）。即使暂不申报高企，也必定是企业知识产权战略规划中的重要部分。

以上就是小编将为大家具体讲解的内容，希望会对大家有个帮助!如果您在申报上有什么问题，请直接联系小编，我们有专业的项目老师为您解答！

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